| 宋慧瑾,鄢强,李玫,董志红,冯威,朱晓东,孙艳.工艺参数对CrNx涂层性能的影响[J].高技术通讯(中文),2015,25(3):300~306 |
| 工艺参数对CrNx涂层性能的影响 |
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| DOI： |
| 中文关键词: 氮化铬（CrNx）,涂层,工艺参数,直流磁控溅射 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| 作者 | 单位 | | 宋慧瑾 | | | 鄢强 | | | 李玫 | | | 董志红 | | | 冯威 | | | 朱晓东 | | | 孙艳 | |
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| 中文摘要: |
| 采用直流磁控溅射技术制备了氮化铬（CrNx）涂层，研究了制备CrNx涂层的工艺参数对所制备的CrNx涂层的膜基结合力及力学性能的影响。研究结果表明：工艺参数对CrNx涂层性能的影响不成各向同性关系；在较低的N2含量、较高的脉冲偏压、约100V的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的硬度较高，而在较低的N2含量、恰当的脉冲偏压和占空比配对、较高的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的表面形貌较好。 |
| 英文摘要: |
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